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soloworks渲染改变光照角度,solodworks渲染

本文目录一览:1、SketchUp里光线角度怎么调?

本文目录一览:


  • 1、SketchUp里光线角度怎么调?


  • 2、solidworks 2011 中,3D渲染 能否自定义光照角度和位置 动画能否拥有渲染的视觉效果、


  • 3、高动态光照渲染的概念


  • 4、如何使用3dmax渲染出一个场景的纹理坐标?


  • 5、3D渲染灯光参数都正常渲染第一个角度还很正常第二个角度忽然曝光。有木有高手遇见过这种问题?求解

SketchUp里光线角度怎么调?

1、打开SketchUp,选中要填充光线角度的图形。

2、然后点击窗口-默认面板-阴影。

3、点击阴影后,在右侧点击阴影图标就可以显示阴影,然后调整时区就可以使光线角度不同。

4、调整好时区后,光线阴影就做好了。

5、调整不同时区,光线角度也会跟着变。

solidworks 2011 中,3D渲染 能否自定义光照角度和位置 动画能否拥有渲染的视觉效果、

这个是可以的,在菜单-视图-光源于相机调出来。在视图显示中你要把想显示出来的光源点击确实显示出来才能修改。渲染的视觉效理论上应该可以的,把显示效果带边线上色改成调整到整合预览应该是渲染的动画,我看见过别人做出来自己没有弄过!!!望采纳

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高动态光照渲染的概念

如上文所说HDR,为高动态范围的简称,何为高动态范围,举例说明:

现实真正存在的亮度差,即最亮的物体亮度,和最暗的物体亮度之比为, 而人类的眼睛所能看到的范围是左右,但是一般的显示器,照相机能表示的只有256种不同的亮度。

但是我们可以多拍几张照片,2张,3张,...., 甚至几十张,这些照片的曝光依次增大,很多朋友应该可以想到,随着照片曝光的增大,照片会依次变亮,换一种角度,照片所表示的细节会由暗处向亮处改变。

根据上面的原理,如果我们将照相机拍摄的很多张图片合成,结果图片的数量级一般为甚至更多。

这样问题就出现了,或者更高数量级的亮度只能存在电脑里,而一般的显示器只能表示个亮度数量级,用256个数字来模拟所能表示的信息,这种模拟的方法就是HDR技术核心内容之一,学名叫Tone-Mapping 。用Tone-mapping压缩以后,我们所合成的HDR影像就能很好的在显示器上显示了,能给人以震撼人心的效果。

如何使用3dmax渲染出一个场景的纹理坐标?

在给物体添加贴图前先在修改器里给它添加一个UVW坐标后便可以在材质编辑器里用它修改贴图的位置

要使物体高亮显示 可以在材质编辑器里添加自发光

像投影 反射 折射等效果都是3D软件自己计算出来的 我们只要在材质编辑器里给物体添加了某些功能或特性 3D会根据这些数据进行计算并产生相应的效果

漫反射里添加的图片显示的是原图片效果 而贴图:反射添加图片显示的却是高亮的镜面效果

光线跟踪可以让物体变亮[有高光] 它里面的贴图按钮可以利用图片使物体变亮

灯可以调节颜色 主光用聚光灯 补光用泛光灯 可以用好多盏 都可以添加投影 各种灯还可以在修改器里排除其所能照射到的立体使之不被照射到

要使物体不被渲染 可以在其属性里去掉勾选"对摄象机可见"

材质编辑器里的自发光只会让物体自己变亮 而对周围物体没有任何影响

添加材质时如果物体在创建时形状被修改了 则要先给物体添加一个UVW坐标修改器来和材质编辑器里的UVW修改面板一起调节图形

给物体添加光线跟踪材质以后就会产生周边物体的倒影等效果[漫反射里的光线跟踪是产生玻璃效果的透明 而贴图里的是产生镜面效果]

噪波贴图让表面产生视觉上的粗糙效果 但物体的形状并未改变 这是和噪波修改器的本质的不同

材质编辑器里STANDARD里的光线跟踪多了个折射率选项 可调折射率

在材质编辑器里如果不能调节贴图大小和位置 可以添加UVW变换修改器来进行调节

材质球用完可以删去供再用 而视图里的图形材质不会跟着删去

我们可以对灯光指定照射对象也可以排除灯光的照射对象

渲染:效果:可以给渲染出的场景图片添加效果 如模糊效果[在制作灯光模糊效果时常用]

有时候贴图在视图里不会显示但在渲染里显示

贴图可以直接从软件外界拖入到物体上

参考图是用材质编辑器里的漫反射贴图贴在创建的"平面"上的 右键点编辑器里的查看图象可以出现贴图大小的信息 供来修改创建的贴图大小

材质颜色在材质编辑器里选择 选择后就可以直接在修改器列表上的颜色筐里选取颜色修改线筐颜色了

布尔运算后的对象贴图坐标丢失 要给对象加一个UVW MAP修改器后才会显示贴图

材质编辑器里贴图面板上的反射和折射分别可以起到镜面和透明的效果

可以选择多边形层级分别对物体的各个面添加各种材质

渲染是门光线与投影艺术的学问 上材质和渲染是联着的 材质效果将直接影响渲染出的效果

人物身上的纹理图案都是在PS里画好后贴在模型上的

用完材质球后把材质球删掉 视图里的材质仍不会消失

有时候要在材质编辑器里将物体的材质改为双面显示才可以看到组成的面

点击渲染菜单里的"动态着色视口"可以让视图变成渲染窗口

材质编辑器里的环境光和漫反射都可以改变物体颜色 渲染菜单里环境里"背景颜色"可以修改视图背景颜色

可编辑多边形应用材质编辑器贴图里的置换贴图可以让立体根据图案进行造型 生成一个根据图案生成的立体效果 但只能在渲染窗口才可以看到这种效果

材质编辑器贴图栏里的"置换"和"凹凸"都是使用来自图片的RGB信息改变对象的曲面法线的方向[即改变面的朝向]来产生立体效果的[亮部凸起 暗部凹进 凹凸强度大小取决于贴图栏里的"数量"值]它们都只能在渲染时才可以看到效果 而视图里都只能看到贴图的效果 但他们又有本质的区别:在渲染器里[而在视图里两者并无区别 显示的都是贴图的效果]前者利用图片把物体置换成了新的形状 而后者并没有改变物体的形状 它产生的凹凸感只是储存在贴图里的RGB信息产生的效果而已

UVW编辑器里 把面拼在一起时 要让接缝尽量少 或是放到不显眼的地方

UVW贴图:面:可以让立体的每个面都贴上贴图

UVW贴图修改器可以让物体的UV按自身形状布置

使用多唯子材质前要先给各个面设置ID

游戏里的头发常用透空贴图做 要准备一张图片和一张该图片的通道图[其实只要CTRL+I反相的图就可以了],然后先在漫反射里给物体贴上该图片 再在贴图卷展栏里的"不透明度"里贴上通道图,这样物体就贴上透空贴图了[不透明贴图起到透明物体的作用 它只是将黑色覆盖的部分隐藏去 并没删除去可以是任意图片]如果透明后的物体在视图里不显示透明 可以点击视图里的"激活所有贴图"使之显示[如果透明后的物体不显示背面可以勾选材质编辑器里的"双面"使之显示]

如果贴图在视图里不显示可选视图菜单里的"激活所有贴图"使之显示

低模通常只贴一张贴图就够了 头发也只要一张

UVW展开修改器里选择各个级别后便可以在模型上选择并同时在编辑窗口里选择到相应的对象

UVW展开时 点击修改器下的面级别选择模型上欲选择的面后 在位图参数面板里按要展开的平面类型先在平面到长方体类型里选择后再选择适配最后对齐到要对齐的坐标上[选择不同的对齐坐标展开的图形将不同 可以点击看选择什么对齐坐标可以展成理想图形] 这样在UVW编辑窗口里已选择的面将按我们自己的最佳要求展开也只有这样才能在UVW展开窗口里把选择的对象拖动出来[这时修改器面板上的动作和编辑窗口同步进行][这一步有时候可以用UVW编辑窗口里的"贴图"里的"展开贴图"取代 让展开的面达到最佳并可以让棋盘格按正常大小的正方形显示][为了让棋盘格大小不受变化 最好不要放缩展平的面]

一般的 展平贴图时在视图里选择越多的面成为一块会越好展平

UVW编辑时 把调节的面调节得与模型里的面越相似 则棋盘格的拉伸越小 所以要尽量调节得很相似

UVW编辑窗口里 只有全选模型里接缝内的所有面 才可以把这些面平移出来

UVW展开之前不要光滑模型

有接缝的地方必定有断开的顶点可以通过焊接顶点消除接缝

模型不要拆得太碎 否则接缝过多将不好拼 最好是一大块一大块地选择面

保存UVW展开图要使用插件TEXPORTER[但好像MAX8里可以直接在UVW编辑窗口里的工具:渲染UVW里直接保存成TGA文件] 将其安装到3DS MAX4的plugins目录中 我们将在工具面板上的MORE列表筐里找到 使用该插件时要先去选PLOYGON和BACKFACE CULL两个选项然后点击PICK OBJECT在对象上选择展开好的UV 再在弹出窗口里将其保存为TGA格式[如果保存出来的图片背景为不透明那是PHOTOSHOP版本的缘故 用7.0打开就是透明的了 也可以保存成PNG格式]

TEXPORTER下的COLORIZE BY可以设置UV线框的颜色

模型贴图的格式可以是TGA或PSD

在编辑UVW窗口里 选中一组顶点或边后选择"缝合选定项"命令可以使选中的顶点或边与对应的顶点或边缝合 UVW窗口里的接缝两边的面是断开的 可以随意拖动 按CTRL+B断开两个面则这两个面的公共边将变成接缝

可以通过给模型添加UVW展开修改器看到模型的UVW展开图

选定了UV面后在修改器位图参数里设置"平面"以后,编辑UVW窗口里选定的面将自动断开成一个独立的面

如果出现接缝孤立的现象 可以通过焊接接缝以合并两边的面或利用位图参数里的"平面"来除去

UV编辑时要可以通过修改点或放大和缩小图形来尽量保证模型上各个面的棋盘格大小相同并呈正方形[没有拉伸现象 即不变形]这就应该让UV上每个面的形状尽量与模型上的面的形状和比例相似

UV位图参数常采用"对齐到视图"视图怎么旋转它就怎么展开

一般的都是将UV分成头部 身体 手臂 腿 脚这几部分

如果UV展开时有出现多选的面 可以用目标焊接点的方法去除 焊接在一起的点 只要模型里有几个面共有它 断开它以后它就可以断开成几个面[所以如果有几个面围绕在一个点周围 可以用"断开"来把它们分开]

UV展开时 正面与背面可以分别展开以避免UV编辑窗口里的面重合

UV贴图的棋盘格的哪个方向过长了 我们往哪个方向拖动点就可以将它缩短 同样的 如果往哪方向倾斜了 我们就要往哪方向拖

UVW编辑窗口里的CHECKERPETTERN可以让贴图在视图里显示 但要先选择欲贴的贴图

在UVW编辑窗口里如果不小心把几个面焊接成一个点的话 都可以先找到该点再通过断开点并拖拉来复原这几个面

编辑UVW时 平面化选中的面后如果要将选择的面转化为点级别 应在菜单下的"将面转化为顶点"而不是在选择模式里选

泛光灯是广泛照射的灯 照射范围为360度 而聚光灯是区域照射的等 照射范围呈圆锥状 两者都具有和真实光线一样的光照效果

一个场景一般都用一个天光[场景整体的明暗取决于天光的倍增大小 天光只能让整体产生比较模糊的阴影 而细部较清晰的阴影则要用泛光灯或聚光灯照射产生]泛光灯和聚光灯设置的是局部的灯光 要按需要采用 场景里会用最多盏

灯光的设置顺序一般是:天光、阳光、人工装饰光 补光[如泛光灯] 当对一个添加后的效果满意了以后才能添加下一个灯光 需要一步一步地渲染以观看效果

烘陪是通过灯光设置来改变贴图的效果的 灯光设置好后在渲染菜单下的"渲染到纹理"里设置:点中场景中物体在输出栏里点"添加"随便选一个选项 最后点击弹出窗口最下角的"渲染"就可以渲染出自动展平的带灯光效果的物体的UVW编辑图[可以直接保存为JPG格式]并在修改器里自动添加了"自动展平UVS"修改器 该修改器类似与"UVW展开"

物体在烘陪后 如果删除去场景里的灯光 物体仍然会显示出有灯光时的效果 一般的 可以把对象烘陪后导出JPG格式的图片 然后便可以通过修改JGP图片来修改场景里对象上的贴图[这和UVW展开也是一样的]

3D里的UV展开其实就是将网格展开

灯光面板上的"排除"可以排除灯光对个别对象的照明

有时候需要通过在场景里添加一物体来达到物体上高光的形状效果

材质编辑器上的"从对象拾取材质"吸管可以把对象上的材质吸取到材质球上

在UVW编辑窗口里 如果要断开一条点组成的分界线的话 不用在点级别里断开 而应在边级别里断开

******uvw展开修改器:编辑:工具:放松:可以让所选择的堆挤在一起的UV[只能是所有UV的一部分]变得松弛直至平展开来 平展的结果是 视图里的多边形和平展开来的多边形相似 但是为了得到理想的平展结果 最好是选取顶点 一部分一部分地进行平展[共提供了三种平展方式 至于用哪一种要都尝试一下看看 默认方法是"由边角松弛"该方法通常就能提供最佳的效果]平展前应这样设置:"拉伸"设置为一个中间值 如果重叠区域较大 则使用0.5或更高 如果相对较小 则尝试使用0.1至0.3

(1)按面角度松弛:基于面的形状松弛顶点 其尝试将面的几何形状与 UV 面对齐 该算法主要用于去除扭曲而并不是去除重叠 最适用于更简单的形状(2)按边角度松弛:该默认方法类似于"按面角度松弛"不同之处在于它使用附加到顶点的边作为要匹配的形状 其效果通常优于"按面角度松弛"但是要获得结果花费的时间要更长 该方法最适用于较复杂的形状(3)按中心松弛:这个原始的"松弛"可以使顶点离开其面的质心[重心]该方法并不考虑面或边形状/角度 因此它主要用于去除重叠或通常为矩形的面(4)迭代:单击"应用"时应用"松弛"设置的次数 每个迭代将继续应用到上个迭代的结果中(5)数量:每个迭代应用松弛的强度(6)拉伸:可以进行拉伸的量 拉伸主要用于解决重叠纹理顶点问题 但是会使纹理网格重新出现扭曲(7)保留外部角:将纹理顶点的原始位置保持为距离中心最远 只可用于"按中心松弛"方法

uvw展开修改器可以对物体子级别的选定部分进行展开

一般的 是先做完贴图再做毛发

UVW展开:选择参数:平面角:单击一次 就可以选择连续共面的面 启用此选项 然后设置阈值角度值 它确定哪些面是共面的 然后单击一个面以选择该面和角度比阈值角度值低的所有连续面

UVW展开:选择参数:选定ID 可以选择指定ID的所有面

给模型贴图时使用多维/子对象材质 可以分ID给各部分面贴上不同的贴图[或是赋予不同的颜色]

材质编辑器里的材质球如果不够用了 可以点击材质编辑器:工具:重置材质编辑器窗口进行重置 这样就可以继续添加材质了

三大渲染器:(1)Vray的特点是渲染速度快[Lightscape渲染器已被Vray渲染器取代](2)Brazil渲染器渲染效果极其强大(3)FinalRender渲染器渲染效果虽然略逊色于Brazil 但其速度非常快

渲染器好比摄象机 好的摄象机才可以拍到好的效果

渲染:就是建好场景后不断地修改场景里的灯光和修改渲染器各参数使场景按F9渲染出来的效果达到理想状态

******总结:VRAY在渲染的测试阶段[未出图阶段 而出图阶段应该调高些]参数要调低些以提高渲染速度 即关闭反射和折射[那么渲染后的效果图就没有反射和折射效果了]在有布置灯光的场景里不渲染默认灯光[即缺省灯光] 图形采样用"固定"采样器{有时候也用自适应细分采样器但要把图象的最小和最大比率即最小和最大采样调低[比率越小图象越模糊]可以是负数} 关闭默认的过滤器[它的作用是让边缘更清晰 但是影响速度] 并关闭全局光照[即间接照明 它包含了场景里的间接光照 如反射光折射光 这就让场景里的照明显得更真实了也让渲染的速度更慢了]

一般的 使用vray渲染器的默认设置就能渲染出很好的效果

图形采样:"固定"采样器:它的锯齿比较大所以质量比较低 但是渲染速度很快 细分值设得越小画面质量就越低 速度也越快 它在测试阶段是三种采样器里最常用到的采样器

图形采样:自适应准蒙特卡洛[QMC]:它采样的质量好细节多但是速度慢[细分值越大就越慢] 它比较适合采样细节比较多的场景[最终渲染时常用到它 它配合较好的过滤器可以提高图象的质量]

图形采样:自适应细分:它采样的速度也快 是最常用到的采样器 特别是在出图阶段 它达到了速度与质量上的一种平衡 质量上他达到了平滑的效果 但细节丢失的比较多质量还是不太理想[如果场景里细节不是太多的话 那它在最终渲染里应是首选]

全局开关:覆盖材质:要将选择的VR材质拖入材质编辑器里才可以 它可以方便我们布光

"准蒙特卡洛采样器"栏目对图象的模糊度影响比较大 对渲染的速度影响也比较大

全局开关:最大深度 控制的是场景里所有反射和折射次数 它要视对象进行设置 如玻璃 值一般设得较高 而关闭或降低这个次数可以提高渲染速度]

全局开关:覆盖材质:按指定的一个材质显示场景里的所有物体

间接照明:首次反弹/二次反弹:指的是光的首次反射/第二次反射[即间接光照] 倍增值是他们的强度 首次反弹的全局光引擎多用发光贴图 而当场景里的细节不高的时候采用二次反弹里的"准蒙特卡洛算法" 渲染速度会比"灯光缓存"快 反之则相反 通常倍增器的值越高则场景越亮 首次反弹的值可以大于1 而第二次反弹的值不能大于1 一般都设置在0.5-1之间

发光贴图:当前预置:自定义:可以手动调节发光贴图的各个参数 [而其下的7 个选项都是预设好的] 最终出图时其基本参数面板上的1:最小比率可以调高 一般为-4 但是速度会变慢 而当场景细节多的是时候最大比率也应调高 一般为-1[最好不要超过0 否则影响速度] 速度也会变慢 [在渲染的时候会按最大和最小比率的差值决定重复渲染的次数 差值越大 次数越多 渲染速度就越慢]2:半球细分也影响着图象的质量 在测试阶段可以给它设置在10到15之间 而在出图阶段可以设置在30到60之间 这三个选项对出图的质量影响都不会很大3:插值采样的值越大黑斑平滑的情况就越好 但是过大的话场景的阴影又会显得太平

灯光缓存: 其上的(1)"细分":它对渲染的影响是比较大的 值越大 渲染的质量就越好但是速度越慢了 测试阶段只要调低一点如100 出图阶段一般调到500到800之间(2)"保存直接光":要得到好的图象质量最好不要勾选它 但是速度会慢(3)显示计算状态:在测试阶段最好打开(4)模式[一般采用单帧模式]:其上的"保存到文件"是(必须)在渲染过后将设置的灯光缓存的参数保存成一个文件以供下次调用[在"从文件"模式下的浏览里调用 调用以后面板上原设置的参数就不起作用了]这和发光贴图里的"模式"是一样的 两者保存以后再重新调用 可以避免在渲染大图时进行重复渲染而节省了时间

灯光缓存模式往往都是与发光贴图模式进行搭配的

间接照明:饱和度:控制场景颜色的整体浓度

****操作或渲染时如果突然提示程序出错应立即关闭MAX可能是虚拟内存设置得太低的原因所致 那么可以适当加大虚拟内存空间并重启后再试[可以大到初始大小和最大值大于4000] 如果是渲染毛发时出现错误就很可能是因为毛发的数量设置得太大了[一般人头的头发总数量为10000左右] 可适当减少毛发后重试

环境:(1)全局光环境[天光]覆盖:打开它 在渲染时场景里的灯光就被设置的环境光取代了 其后的贴图可以让环境光按贴图的色彩投射出颜色 打开贴图后 场景的颜色就不受设置的环境光影响了而只受贴图的影响(2)反射/折射环境覆盖:打开他后 场景里反射和折射出来的都是它设定的颜色的光

环境面板使用的前提是:场景必须受到外部环境光的影响而不能在封闭的场景里使用

rQMC采样器[即准蒙特卡洛采样器]:控制所有与模糊有关的效果 对图象质量有重要的影响

其(1)适应数量越大那么杂点就越多 质量就越差 但是渲染速度会越快 所以测试阶段可以将它调大一点 而出图阶段可以调小 可以设为默认值0.85(2)噪波阀值控制的是图象的模糊程度的 它的值越大那么杂点就越大图象越模糊 渲染的速度也越快 所以在测试阶段应调大 反之不然 在出图阶段可以调为0.005(3)最小采样值:值越大采样得就越精细 渲染速度就越慢 通常保持默认(4)全局细分倍增器:值越大场景里所有的对象渲染出来的品质越高 但速度越慢 通常保持默认[这四项里(1)和(2)两项对质量和速度的影响是比较明显的 但是出图阶段最好还是改为默认值]

"颜色映射"栏目设置的是曝光方式 可以调节图象的对比和亮度 一 类型:一般只使用这三种类型的暴光(1)线形倍增(2)指数(3)HSV指数" 三者产生的光照效果是(1)最亮和最强烈(3)最暗最柔和 二 变暗/亮倍增器:调节的是暗/亮部的亮度 可以让暗部或亮部变得更亮或更暗 通常将他们调到1.5至2.5之间[这是调节整体亮度的关键] 三 伽玛值:设置整体的亮度

系统:设置的是渲染的方式 其中的(1)渲染区域分割:设置的是渲染方框的大小 方框越大渲染的速度也越快 一般保持默认(2)显示窗口可以在渲染时显示渲染的信息框(3)分布式渲染可以将一个大的场景让几台电脑一起分区渲染(4)预置:可以将当前设置的渲染器的所有参数保存起来 如果下次要用到便可以加载进来 通常只要保存测试阶段和出图阶段的两个参数即可

MAX绘制贴图常用Bodypaint 3D 它相当于ZB里的ZAPPLINK 可以直接在模型上绘制贴图[它的画笔紧贴着对象] 像在PS里绘制平面图一样 其用法也如同PS 可以很容易地去除掉贴图的接缝 但运用它之前应先给模型分好UV

******法线贴图[即法线凹凸贴图]通过渲染菜单下的"渲染到纹理"输出 就叫烘焙贴图 贴图烘焙就是一种把MAX光照信息渲染[或者说"转化"]成贴图的方式 而后把这个烘焙后的贴图再贴回到场景中去的技术这样的话光照信息变成了贴图 不需要CPU再去费时的计算了 只要算普通的贴图就可以了 所以速度极快 由于在烘焙前需要对场景进行渲染 所以贴图烘焙技术对于静帧来讲意义不大 这种技术主要应用于游戏和建筑漫游动画里面

******法线贴图[不同于置换修改器里的贴图 因为后者是造成形状的真实改变]是指一种新技术 它产生的效果相当于ZB里的ALPHA 用于模拟低分辨率多边形模型上的高分辨率曲面细节 法线凹凸贴图在某些方面与常规凹凸贴图类似 但与常规凹凸贴图相比 它可以传达更为复杂的曲面细节 法线凹凸贴图不仅可以存储曲面方向法线的信息 而且还可以存储常规凹凸贴图使用的简单深度信息 我们可以将法线贴图想象为一种增强的凹凸贴图 它使用来自图片的RGB信息改变对象的曲面法线的方向 但比简单的灰度凹凸贴图具有更大的精确性和灵活性 可以将它当成一种特别的凹凸贴图] 它包括了每个像素的高度值 内含许多细节的表面信息 能够在平平无奇的物体上 创建出许多种特殊的立体外形 可以把法线贴图想像成与原表面垂直的点 所有点组成另一个不同的表面 对于视觉效果而言 它的效率比原有的表面更高若在特定位置上应用光源 可以生成精确的光照方向和反射

贴了法线贴图以后 低精度模型的形状并未改变 而产生的凹凸感只是储存在法线贴图里的RGB信息所产生的效果而已 它的效果将和高精度模型非常相似

对于简单的几何体 我们可以用渲染:渲染到纹理:仅展开[前提:勾选"使用自动展开"]来自动展开UV

在ORIGOENGINE的材质系统中 可以看到很多的DDS文件 可以简单地认为这些DDS文件同BMP TGA等常见的图片格式一样 记录了一张图片的信息 如果我们在PS中使用DDS的插件 就可以在PS中打开它

法线凹凸贴图的制作:

将展好UV的低模与高模重叠在一起[形状要相近 中心要重合] 选择低模 打开渲染:渲染到纹理面板 然后勾选投影贴图下的"对象级别"和"放入烘焙对象"去选"子对象级别"和"输出到烘焙材质"并勾选"使用现有通道"和"所有选定的"然后在"选取"里添加高模物体做为目标 接着在输出栏里添加法线贴图NORMALSMAP选项并选择目标贴图位置为"凹凸" 设置贴图大小以及勾选"输出到法线凹凸"后再回到投影贴图一栏里打开"选项"在面板上选择"局部XYZ 红+X 绿+Y"最后选择渲染按钮旁的"已烘焙"为渲染方式就可以渲染了 渲染完毕后在材质编辑器上用吸管点击低模物体便可以看到材质球上已经带有法线贴图了 最后将他赋予低模物体即可

法线贴图与置换贴图的区别:

法线贴图相当于凹凸贴图的扩展 只是改变物体表面的法线方向 并不改变物体表面 所以从与表面平行的方向看过去 表面还是平的 有棱角的 但是计算的速度很快

置换贴图 改变物体表面 从与表面平行的方向看过去 表面是弯曲的 效果比较好 但计算量大

但两者都没有真正地改变了物体的形状 只是利用了自己特有的计算方式

3D渲染灯光参数都正常渲染第一个角度还很正常第二个角度忽然曝光。有木有高手遇见过这种问题?求解

开:灯光开关。 2、排除:可排除不需要照亮的物体。3、类型:有平面、穹顶、球体三种,平面一般用于做片灯,穹顶灯的作用类似与max默认的IES SKY灯光,做一个球型的光来照亮场景,移动灯自身的z轴可以控制阴影的方向.用于模拟天光.经常是一个虚拟物体而已,4、单位:VRaylight(VRay灯光)提供了Defute(默认)、Luminous power(光通量)和Luminance(亮度)三种照明单位 。 Defute(默认)单位是依靠灯光的颜色和亮度来控制最后强弱,如果不考虑暴光,灯光色彩将是物体表面受光的最终色彩。 ??选择Luminous power(光通量lm)单位时,灯光的亮度将和灯光的大小没有关系;??当选择Luminance(亮度lm/m2/sr)单位后,灯光的亮度将和灯光的大小产生联系; ??当选择Radiant power(辐射量w)单位后,将用瓦数来定义照明单位,它和Luminous power(光通量)单位的性质一样,灯光的亮度和尺寸同样没有关系; ??Radiance(辐射亮度W/ m2/r)单位同样由瓦数来控制照明单位,不同的是选择Radiance(辐射亮度)单位后,灯光的亮度将和尺寸产生联系。 5、颜色:通过VRay灯光光源发射出的灯光颜色6、倍增器:一个VRay灯光颜色倍增器。7、尺寸:控制灯光阴影面的大小,值越大边缘越虚。U size(U向尺寸大小) - 光源的U向尺寸大小(如果Sphere 光源被选择 U size 相当于这个sphere的半径)。 V size(V向尺寸大小) -光源的V向尺寸大小(当Sphere 光源被选择时这个选项将失去作用)。 W size(W向尺寸大小) -光源的W向尺寸大小(当Sphere 光源被选择时这个选项将失去作用)。8、选项(1)双面:当VRay灯光为平面光源时,该选项控制光线是否从面光源的两个面发射出来。(当选择球面光源时,该选项无效) (2)不可见:这个设置控制VRay灯光光源是否在渲染结果中显示它的形状。(默认是显示的)(3)忽略灯光法线:一个被跟踪光线撞击光源时这个选项让你控制 VRay 处理计算的方法。 根据真实世界的光这个选项应该被关掉,无论如何当这个选项打开时渲染结果可能会smoother. (4)不进行衰减:这项被打开时 VRay灯光将不进行衰减。否则灯光将以距离的反向平方( inverse square) 方式衰减。(这是真实世界光衰减的方式。) (5)天光开关:参数的意思是把此灯(及关联灯光)交由vray环境面板的天光选项控制,如强度和色彩等。(6)存储光照贴图:当该选项选中并且全局照明设定为Irradiance map 时,VRay将再次计算VrayLight的效果并且将其存储到光照贴图中。其结果是光照贴图的计算会变得更慢,但是渲染时间会减少。你还可以将光照贴图保存下来稍后再次使用。 (7)影响漫反射区:控制灯光是否影响物体的漫反射,一般是打开的(8)影响高光反射:控制灯光是否影响物体的镜面反射,一般是打开的9、细分:该值控制VRay用于计算照明的采样点的数量,值越大,阴影越细腻,渲染时间越长。10、阴影偏移:控制阴影的偏移值。11、半球形灯光选项:当灯光为半球光时可用使用纹理无允许使用贴图作为半球光的光照分辨率12、光子发射:当灯光为半球光时可用目标半径:定义光子从什么地方开始发射发射半径:定义光子从什么地方结束发射13球形(完整穹顶)窗口处用的是双VR灯打光,大的一般小亮度偏冷色,小的一般高亮度偏暖色,可以避免将窗口打暴又可以获得相应的亮度,墙面白首先要将光调合适,配合上适当的亮暗部倍增,所布的光稍偏蓝也可以使墙显得白些.关于局部排除:在一个场景中心有1 2 3 三个物体和地面都赋予个反射材质 于是地面反射出了123的样子 ,让12反射出现在地面上 而3不反射不出现在地面 但是3的反射又能出现在12上,可以对物体3给一个VR覆盖材质(VRayOverrideMtl),基础材质(Base material)里使用原来的材质,在反射材质(Reflect mtl)里给另外一个材质,在其透明(Opacity)通道里给一个输出数量(output amount)为0.0的output贴图,这样物体的反射就是被一个完全透明的物体替代了,再另外渲染一


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    本文回顾了t-io 1.x版本的工程结构和性能数据,并介绍了t-io在码云上的成绩和用户反馈。同时,还提到了@openSeLi同学发布的t-io 30W长连接并发压力测试报告。最后,详细介绍了t-io 2.0.0版本的更新内容,包括更简洁的使用方式和内置的httpsession功能。 ... [详细]
  • 图解redis的持久化存储机制RDB和AOF的原理和优缺点
    本文通过图解的方式介绍了redis的持久化存储机制RDB和AOF的原理和优缺点。RDB是将redis内存中的数据保存为快照文件,恢复速度较快但不支持拉链式快照。AOF是将操作日志保存到磁盘,实时存储数据但恢复速度较慢。文章详细分析了两种机制的优缺点,帮助读者更好地理解redis的持久化存储策略。 ... [详细]
  • Java在运行已编译完成的类时,是通过java虚拟机来装载和执行的,java虚拟机通过操作系统命令JAVA_HOMEbinjava–option来启 ... [详细]
  • 本文介绍了iOS数据库Sqlite的SQL语句分类和常见约束关键字。SQL语句分为DDL、DML和DQL三种类型,其中DDL语句用于定义、删除和修改数据表,关键字包括create、drop和alter。常见约束关键字包括if not exists、if exists、primary key、autoincrement、not null和default。此外,还介绍了常见的数据库数据类型,包括integer、text和real。 ... [详细]
  • 本文讨论了在openwrt-17.01版本中,mt7628设备上初始化启动时eth0的mac地址总是随机生成的问题。每次随机生成的eth0的mac地址都会写到/sys/class/net/eth0/address目录下,而openwrt-17.01原版的SDK会根据随机生成的eth0的mac地址再生成eth0.1、eth0.2等,生成后的mac地址会保存在/etc/config/network下。 ... [详细]
  • Java中包装类的设计原因以及操作方法
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  • 一句话解决高并发的核心原则
    本文介绍了解决高并发的核心原则,即将用户访问请求尽量往前推,避免访问CDN、静态服务器、动态服务器、数据库和存储,从而实现高性能、高并发、高可扩展的网站架构。同时提到了Google的成功案例,以及适用于千万级别PV站和亿级PV网站的架构层次。 ... [详细]
  • 本文介绍了Swing组件的用法,重点讲解了图标接口的定义和创建方法。图标接口用来将图标与各种组件相关联,可以是简单的绘画或使用磁盘上的GIF格式图像。文章详细介绍了图标接口的属性和绘制方法,并给出了一个菱形图标的实现示例。该示例可以配置图标的尺寸、颜色和填充状态。 ... [详细]
  • Android系统源码分析Zygote和SystemServer启动过程详解
    本文详细解析了Android系统源码中Zygote和SystemServer的启动过程。首先介绍了系统framework层启动的内容,帮助理解四大组件的启动和管理过程。接着介绍了AMS、PMS等系统服务的作用和调用方式。然后详细分析了Zygote的启动过程,解释了Zygote在Android启动过程中的决定作用。最后通过时序图展示了整个过程。 ... [详细]
  • 本文介绍了GregorianCalendar类的基本信息,包括它是Calendar的子类,提供了世界上大多数国家使用的标准日历系统。默认情况下,它对应格里高利日历创立时的日期,但可以通过调用setGregorianChange()方法来更改起始日期。同时,文中还提到了GregorianCalendar类为每个日历字段使用的默认值。 ... [详细]
  • Java 11相对于Java 8,OptaPlanner性能提升有多大?
    本文通过基准测试比较了Java 11和Java 8对OptaPlanner的性能提升。测试结果表明,在相同的硬件环境下,Java 11相对于Java 8在垃圾回收方面表现更好,从而提升了OptaPlanner的性能。 ... [详细]
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看非诚勿扰是修炼
这个家伙很懒,什么也没留下!
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